설비 엔지니어 CVD와 etch 고민

안녕하세요. 

이번에 삼성전자 설비기술 합격한 학생입니다.

저는 플라즈마에 관심이 많고 플라즈마 설비(ICP, CCP)도 많이 운용해보았습니다.

현재 플라즈마를 활용한 대표 공정인 CVD와 etch 중 어느 공정을 선택할지 고민하고 있는 상태입니다.

etch공정이 더 난이도 있는 것으로 알고 있고, 힘들다고 알고 있습니다. 다만 이후 커리어를 생각했을 때, 그만큼 능력을 인정받을 수 있는지 궁금합니다.

요약: etch는 CVD보다 몸은 힘들지만, 고점이 더 높은지 궁금합니다.