삼성전자DS 서탈 원인 분석

안녕하세요. 저는 서성한 화학공학과 4-1 재학중인 학생입니다
지원한 직무는 메모리사업부 공정기술 대학생인턴이고, 서류탈락해서 원인을 파악하고 싶어서 여쭤보고 싶습니다!!

-학점 4.2
-오픽AL
-반도체 ETCHING, DEPOSITION 직무 학부연구생 8개월
-반도체 관련 학술활동 및 프로젝트 수행
-대외활동 및 동아리 활동 활발히 참여
-자기소개서도 공들여 작성했고, 열심히 살아왔는데 어떤게 문제여서 탈락했는지 원인을 알고 싶습니다.

간절합니다. 많은 도움 주시면 정말 감사하겠습니다.