하이닉스 공정R&D 직무 관련 질문드립니다.

안녕하세요.

하이닉스 공정 알앤디직무에 입사예정인 대학원생입니다.

박막 관련 연구를 했다보니 추후 부서 선택에 있어 1. thin film 2. diffusion 3. photo or etch 순서로 관심이 있는데 부서들마다 워라밸의 차이가 심한지 궁금합니다. 물론 대학원생 경험이 있기도하고 공정 연구직무인 만큼 주 52시간 근무에는 자신 있는데 보통 다들 52시간 근무를 하시는 분위기인지도 궁금합니다.

읽어주셔서 감사합니다.